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時(shí)至今日，我公司己成為國(guó)產(chǎn)銅加工用罩式爐的供應(yīng)商，在此基礎(chǔ)上我司和大連萬通、上海鐵陽等單位合作，推出通過式退火爐、臺(tái)車式退火爐、步進(jìn)式加熱爐、脫脂線、銅帶倒帶機(jī)等產(chǎn)品，并成功打入市場(chǎng)。

退火爐的用途

發(fā)布時(shí)間：

2018-01-15

退火爐一般是基于鎢管加熱元件，加熱速度快，使用S型熱電偶和國(guó)際領(lǐng)先的模糊PID控制，高溫精度<±5℃>，退火爐真空裝置，可以工作在各種氣氛。大大增加了它的使用范圍。標(biāo)準(zhǔn)配備件需支付高溫手套，熱電偶，石英管，真空法蘭1組?？蛇x配件：氧化鋁坩堝，石英坩堝，真空泵。退火爐是一個(gè)現(xiàn)代化的生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵設(shè)備。主要用于激活的雜質(zhì)離子注入，制作淺結(jié)，生長(zhǎng)高質(zhì)量的氧化物層和金屬硅化物合金的形成過程。隨著退火，退

退火爐一般是基于鎢管加熱元件，加熱速度快，使用S型熱電偶和國(guó)際領(lǐng)先的模糊PID控制，高溫精度<±5℃>，退火爐真空裝置，可以工作在各種氣氛。大大增加了它的使用范圍。標(biāo)準(zhǔn)配備件需支付高溫手套，熱電偶，石英管，真空法蘭1組?？蛇x配件：氧化鋁坩堝，石英坩堝，真空泵。
退火爐是一個(gè)現(xiàn)代化的生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵設(shè)備。主要用于激活的雜質(zhì)離子注入，制作淺結(jié)，生長(zhǎng)高質(zhì)量的氧化物層和金屬硅化物合金的形成過程。隨著退火，退火爐系統(tǒng)技術(shù)開展研究集成電路技術(shù)的飛速發(fā)展，國(guó)內(nèi)發(fā)展和研究具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的光亮退火設(shè)備，具有非常重要的理論意義和工程應(yīng)用價(jià)值。
通過深入分析，制定利用光輻射熱源設(shè)備，上下兩管排列在正交群半導(dǎo)體晶片之間的直接加熱實(shí)現(xiàn)快速溫升在單點(diǎn)溫度的溫度測(cè)量系統(tǒng)整體解決方案計(jì)劃。根據(jù)熱傳導(dǎo)的基本理論，以實(shí)現(xiàn)整個(gè)系統(tǒng)的規(guī)格為已知的參數(shù)，計(jì)算所要求的系統(tǒng)的基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)的熱源和反應(yīng)室的熱功率，冷卻系統(tǒng)，空氣供給系統(tǒng)，組件而設(shè)計(jì)的。通過分析晶圓表面溫度的邊緣效應(yīng)的影響，提出了燈設(shè)計(jì)分區(qū)和控制方案來實(shí)現(xiàn)硅片表面溫度均勻;通過非接觸溫度測(cè)量原理分析，完成選擇光學(xué)高溫計(jì)，測(cè)量溫度和溫度校正方案的設(shè)計(jì)，實(shí)施，精確的溫度測(cè)量，溫度控制系統(tǒng)的基于模型的設(shè)計(jì)，確保溫度控制的精度和穩(wěn)定性，晶圓傳送的功能要求在分析中，傳輸系統(tǒng)的過程的設(shè)計(jì)，實(shí)施，系統(tǒng)的效率和傳質(zhì)薄片的高可靠性的基礎(chǔ)上完成的;控制系統(tǒng)的功能設(shè)計(jì)，主控制程序流程，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化機(jī)器的整體結(jié)構(gòu)和設(shè)計(jì)，確保該系統(tǒng)具有較高的自動(dòng)化水平，控制和管理功能強(qiáng)大，操作方便，可靠性高，可以很好地適應(yīng)退火爐全自動(dòng)控制系統(tǒng)的要求。